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半工業裝置

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碳二加氫側線裝置

    該裝置能完成催化劑的還原到再生的全過程,評價前加氫和后加氫兩種催化劑性能,共有5個反應器,可串可并,根據反應條件及催化劑特點進行設計。運行中可全程自動跟蹤、控制、測量與記錄,
并設有超溫、超壓保護。
工藝條件1:
反應溫度:50~120℃
反應壓力:1.0MPa~2.5MPa
工藝條件2:
反應溫度:60~200℃
反應壓力:3.0~5.0MPa